交大奈米中心ald,大家都在找解答。第1頁
中文名稱.原子層化學氣相沉積系統,英文名稱.AtomicLayerChemicalVaporDepositionSystem(ALD).儀器廠牌型號.CambridgeNanoTechFiji-202DCS.,國立交通大學奈米中心.FjjiF202DCALD操作手冊.107.03.19修訂.實驗須知.1.使用ChamberA之試片不得含有金屬薄膜或經過後段製程,並且沉積前須先進行 ...
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原子層化學氣相沉積系統(ALD) | 交大奈米中心ald
中文名稱. 原子層化學氣相沉積系統, 英文名稱. Atomic Layer Chemical Vapor Deposition System (ALD). 儀器廠牌型號. Cambridge NanoTech Fiji-202 DCS. Read More
國立交通大學奈米中心Fjji F202DC ALD 操作手冊 | 交大奈米中心ald
國立交通大學奈米中心. Fjji F202DC ALD 操作手冊. 107.03.19 修訂. 實驗須知. 1. 使用Chamber A 之試片不得含有金屬薄膜或經過後段製程,並且沉積前須先進行 ... Read More
NFC 國立交通大學奈米中心Q | 交大奈米中心ald
(Atomic Layer Deposition system,簡稱ALD). 十二、黃光室. 一、介電薄膜活性離子蝕刻系統. ( Die-electric Material SAMCO-RIE 200L). 1、Q:能進入SAMCO- RIE ... Read More
儀器設備 | 交大奈米中心ald
... 氣相沉積系統 (Plasma-Enhanced Chemical Vapor Deposition, PECVD). 3. 原子層化學氣相沉積系統 (Atomic Layer Chemical Vapor Deposition System, ALD) ... Read More
操作講義與題庫 | 交大奈米中心ald
儀器. 資料下載處. Wet Bench, 操作規範、考核記錄表. 氧化擴散系統, 操作規範、考核記錄表. PECVD, 操作規範、考核記錄表. LPCVD, 操作規範、考核記錄表. ALD ... Read More
研究員 | 交大奈米中心ald
工作項目. 原子層氣相沉積系統(ALD)製程開發 & 0.5um製程維護. 英文姓名. Ting-Ting Wen, E-mail, [email protected]. 聯絡電話. 辦公室: 03-5712121轉55674. Read More
ALD | 交大奈米中心ald
Instrument name, Atomic Layer Chemical Vapor Deposition System, ALD. Brand Model. Cambridge NanoTech Fiji-202 DCS. Purchase Date. 2009. Seat. Read More
各儀器設備開放等級 | 交大奈米中心ald
A級儀器設備, 一個實驗室申請自行操作之人數限制 (奈米中心保有隨時變更人數限制的權利): ... Atomic Layer Chemical Vapor Deposition System, ALD. 不限. Read More
奈米中心儀器申請程序說明 | 交大奈米中心ald
奈米中心儀器及電子教學實驗室內之設備(E-Gun或薄膜測厚儀或Sputter ... (NFC)交通大學奈米中心. 器設備名稱. 三個月 ... 原子層化學氣相沈積系統(ALD). 5次. 18. Read More
介電材料活性離子蝕刻系統B | 交大奈米中心ald
購置年限. 2002年12月1日. 功能. 蝕刻二氧化矽、氮化矽及未經後段製程之High-K(ALD,MOCVD)等材料. 放置地點. 固態電子系統大樓1樓116實驗室 (TEL:55666). Read More
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